• Features

    • 採用晶彩科技独有AI即时量测及检测解决方桉。
    • 可对应8”/12” Wafer/Frame form。
    • Chip重置后位置偏移/旋转量测。
    • 可同时支援Bumping damage/Die chipping检知。
  • Features

    • 可读取KLARF档进行分区/分Die/Defect size/Defect type高速自动缺陷拍照
    • 提供AI即时缺陷检测;即拍即检即分类,处理速度可达  50 FPS以上
    • 可搭载8”/12” EFEM,支援SECS GEM200/300。
    • 晶圆/封测製程各QA检查站点/CP & FT缺陷拍照及检测
  • Features

    • AI 即时缺陷检测及分类,即检即分类,处理速度可达  50 FPS以上。
    • 可搭载8”/12” EFEM,支援SECS GEM200/300。
    • Min defect size ≧ 0.3µm
    • 可搭载良率管理系统。
  • Features

    • Line Scan高速检测 + AI缺陷分类。
    • 支援Silicon/Glass Wafer正背面外观缺陷检测。
    • 可应用于CIS/IQC/OQC。
    • 可搭载8”/12” EFEM,支援SECS GEM200/300。
  • 採用高速动态光学取像系统及影像品质稳定硬体设计,搭配独有检测演算软体,提供精确的缺陷侦测与分类,并满足不同客户对于8吋及12吋晶圆产品出货品质检验的需求。
  • 可同时针对晶圆级晶粒切割后的晶粒表面及侧面进行细微外观缺陷检测,满足每颗晶粒全检的品质需求并可大量缩减人力检查的时间。

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