• Features

    • 採用晶彩科技獨有AI即時量測及檢測解決方案。
    • 可對應8”/12” Wafer/Frame form。
    • Chip重置後位置偏移/旋轉量測。
    • 可同時支援Bumping damage/Die chipping檢知。
  • Features

    • 可讀取KLARF檔進行分區/分Die/Defect size/Defect type高速自動缺陷拍照
    • 提供AI即時缺陷檢測:即檢即拍即分類。
    • 可搭載8”/12” EFEM,支援SECS GEM200/300。
    • 晶圓/封測製程各QA檢查站點/CP & FT缺陷拍照及檢測
  • Features

    • AI 即時缺陷檢測及分類:即檢即拍即分類。
    • 可搭載8”/12” EFEM,支援SECS GEM200/300。
    • Min defect size ≧ 0.3µm
    • 可搭載良率管理系統。
  • Features

    • Line Scan高速檢測 + AI缺陷分類。
    • 支援Silicon/Glass Wafer正背面外觀缺陷檢測。
    • 可應用於CIS/IQC/OQC。
    • 可搭載8”/12” EFEM,支援SECS GEM200/300。
  • 採用高速動態光學取像系統及影像品質穩定硬體設計,搭配獨有檢測演算軟體,提供精確的缺陷偵測與分類,並滿足不同客戶對於8吋及12吋晶圓產品出貨品質檢驗的需求。
  • 可同時針對晶圓級晶粒切割後的晶粒表面及側面進行細微外觀缺陷檢測,滿足每顆晶粒全檢的品質需求並可大量縮減人力檢查的時間。

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