應用領域
半導體產業:晶圓檢測、先進封裝
面板產業:表面缺陷、晶粒缺陷、像素尺寸量測
電路板產業:線寬、線距檢量測
設備特色
Micro OLED基板需經過蒸鍍製程的金屬遮罩(Mask),讓有機材料能於蒸鍍過程能精確地沉積到對應位置上形成像素,因此若Mask上有任何缺陷或偏差,都可能導致像素錯位或於後續出現嚴重顯示問題。
透過晶彩科技的Micro OLED Mask 缺陷檢測機,能有效檢測Mask上的是否有細微缺陷,以及針對Mask各尺寸進行精確量測。
設備特色:
✔R/G/B defect, Foreign Material、PR Residue、Film Broken
✔CMM Mask:12inch
✔Mask 各類缺陷檢測:Particle、纖維、蝕刻不良、有機物殘留、金屬殘留
✔Mask 尺寸量測:表面平坦度、開口尺寸和Frame高度
✔AI 即時缺陷分類
✔Min. Defect size:1μm
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